H公司的专利墙，被顾渊那把“数学之剑”捅开了一道口子。虽然法律程序仍在拉锯，但明眼人都看得出，深微半导体已占上风。然而，H公司毕竟是纵横全球半个世纪的巨兽，岂会甘心受挫？专利战刚露败象，市场端的致命一击，已悄然而至。
一周后，全球半导体行业传来一则重磅消息：H公司向全球排名前十的晶圆代工厂——包括台积电、联电、格芯、中芯国际等——发出正式函件，宣称“华夏EDA开源社区”输出的设计数据，存在“严重知识产权瑕疵”及“潜在安全风险”。H公司援引其与各大晶圆厂签署的《技术互信协议》，要求所有合作伙伴：立即停止接收、处理任何源自“华夏EDA”的设计文件，已接收的必须销毁，违者将承担违约责任及连带法律风险。
这招，比专利诉讼狠毒百倍。
专利战，打的是笔墨官司，旷日持久。而流片封杀，是直接掐断芯片从设计到实物的咽喉。EDA软件设计出的电路图，必须通过晶圆厂的光刻、蚀刻、封装，才能变成能用的芯片。没有晶圆厂，EDA就是屠龙之技，再好的设计，也只能是纸上谈兵。
消息传来，刚刚在开源社区燃起希望的开发者们，心凉了半截。中芯国际等国内大厂，面临巨大压力。一边是H公司咄咄逼人的律师函和可能断供的EUV光刻胶、特种气体等关键耗材，一边是深微这个尚在襁褓中的“民族品牌”。权衡利弊，中芯国际等企业不得不发布“合规审查”公告，暂停接收深微及开源社区的设计流片申请。
“赵总，完了！全完了！”电话里，深微运营总监的声音带着哭腔，“国内几家大厂，都怂了！海外那几家，根本连电话都不接！我们‘长城二号’的流片计划，彻底搁浅！H公司这是要把我们憋死在实验室里啊！”
赵磊握着电话，指节捏得发白。他太清楚这意味着什么。“长城二号”是“长城一号”的升级版，性能提升40%，功耗降低30%，是深微打入中高端工业控制市场的拳头产品。如果不能流片，前期数亿的研发投入，数百名工程师一年的心血，将全部打水漂。更重要的是，这将彻底堵死“华夏EDA”走向实用的道路，让开源社区沦为笑柄。
“通知所有高管，半小时后，紧急会议。”赵磊的声音异常冷静，听不出丝毫慌乱。
会议室里，气氛压抑。高管们面面相觑，有人主张妥协，暂时放弃开源EDA，改用国外授权软件，先保住流片通道；有人主张硬刚，起诉H公司不正当竞争，但大家都明白，
…。。