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第332章 我们就差这张牌了!

作品:科技入侵现代作者:鸦的碎碎念
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尔绝对控股。

另一家霓虹公司NuFlare Technology也在研发,但市场份额和技术应用广度上都有差距,这是东芝的子公司。

国内的申海微电子旗下也有子公司在负责研发,但精度是90nm到65nm之间。

无论是哪个技术路线的光刻机,都需要有掩膜版,在母版上面去印刷。

会议室里,刚刚因数学突破而燃起的乐观气氛,瞬间被浇灭了。

大家都是业内人士,很清楚梁孟松说的是事实。

没有最顶尖的笔,再完美的设计图也只是一张废纸。

林燃说:“这不是问题,我们虽然没有最先进的笔,但是有次一级的笔。”

林燃看向台下的杨德人说道:“杨院士,你来说说吧。”

随即把舞台交给杨院士。

杨德人站起来,自豪道:“诸位,很荣幸的告诉各位,就在三个月前,由我们浙大的余杭所牵头,联合国内相关单位,历经十余年年攻关的、我国第一台具备商业化能力的高精度多电子束写入机,已经完成了最终测试。

我们以华国古代最伟大的书法家之名,将其命名为——羲之。”

(我国首台6nm的电子束光刻机-羲之,来自HZ市政府官网,不知道为啥国内媒体没咋报道,完全没热度)

“羲之和传统的光刻机不同。”杨院士接着说道:“它不需要掩膜版,而是通过计算机控制,用一道能量极高的、被聚焦到极致的电子束,直接在硅基材料上书写电路。

因此,它可以随时修改设计,反复调试,特别适合芯片研发初期的验证,以及制造像超构透镜母版这样、独一无二的超高精度元件。”

最后杨院士深吸了一口气,报出了那两个让所有人屏息的数字:“它的性能指标,最小稳定线宽为8纳米,电子束定位精度为0.6纳米。”

“这不可能!定位精度0.6纳米?这精度是不是太夸张了?”

“0.6纳米?比老美的精度还要更高?”

“那岂不是意味着我们能造0.6纳米的透镜?卧槽,这回是光源跟不上镜头了。”

杨院士的脸上是掩饰不住的自豪,这可是我们浙大搞的!

“为了让大家理解,我继续用笔来做比喻。

8纳米线宽,是羲之这支笔,在宣纸上能写出的稳定清晰的那个笔锋。

而0.6纳米精度,则是这支笔的笔尖,本身是由几根更

…。。
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